分析精度1ppm或1%
分析灵敏度0.01ppm
脉冲炉7.5KVA
较高温**3000℃
样品称重一般为1g
分析时间一般为3分钟
氧氮分析仪检出限
氧含量测定的前提是要求空白低且稳定。 氧空白值主要是由石墨坩埚、 助熔剂、 载气以及炉膛空白等引起的。在4. 5KW 的分析功率下, 使用高纯免洗镍囊进行测定。 实验结果表明, 氧空白值是 0. 0030% , 标准偏差为 0. 000 1% 。 以空白标准偏差的 3 倍计算出氧的检出限为 0. 000 3% , 以空白标准偏差的 10 倍计算出氧的测定下限为 0. 001% 。
脉冲熔融-红外热导法测定氮化硅中的氧和氮
氮化硅，是一种重要的结构陶瓷材料。它是一种超硬物质，本身具有润滑性，并且耐磨损，为原子晶体；高温时抗氧化。而且它还能抵抗冷热冲击，在空气中加热到1000℃以上，急剧冷却再急剧加热，也不会碎裂。正是由于氮化硅陶瓷具有如此优异的特性，人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、性模具等机械构件。如果用耐高温而且不易传热的氮化硅陶瓷来制造发动机部件的受热面，不仅可以提高柴油机质量，节省燃料，而且能够提高热效率。
采用氮化硅纯物质为参考物质，使用纳克ONH-3000固有的操作软件中的线性拟合程序可以建立氧、氮元素的工作曲线，通过分析氮化硅中的氧和氮，获得了很好的重复性和再现性。
应用领域
炼钢业
氧、氮、氢含量的高低会较大影响钢材的性能。纳克ONH是一台从原料到成品的整个炼钢工业生产过程质量控制的理想分析仪。由于其**高的可靠性，该分析仪可以用在炉前实验室。
飞机制造业
为确保飞机制造业中零部件质量的高可靠性及高度一致性，需要的分析仪器，来分析零部件中的氧、氮、氢的含量。纳克ONH的开发旨在满足飞机制造业中的高要求。它的精度和重复性满足生产这些零部件的要求。
铜制品
有必要仔细铜制品的生产流程，以使产品质量符合要求，避免报废。因此需要的测定从原材料到成品的生产过程中氧以及氢的含量。纳克ONH配有两个立的红外吸收池，可准确测定原材料中的高氧含量和无氧铜中的低氧含量，其低运维成本支持不断增长的分析需求。
ON3000技术参数
1. 分析范围（1.0g样品）
氧： 低氧：0.1～300ppm* 高氧：0.03％ ～2%*
氮： 低氮：0.1～300ppm* 高氮：0.03％ ～2%*
注：*改变称样量可改变测量范围
2. 分析精度：1ppm或1% *
注：* 以不大于试样标准偏差或不确定度为准。
3. 灵敏度： 0.01ppm
4. 分析时间： 一般为3分钟
5. 样品称重： 一般为1g，可根据样品含量改变称样量。
6. 脉冲炉： 电流0～1500A，功率：7.5KVA, 温度**3000℃。
7. 载气
高纯氦气（高氮样品可更换为高纯氩气）
8. 电源： 220VAC±10%，50±1Hz，电流50A。
9. 仪器外形尺寸
主机：W×H×D：55cm×65cm×65cm
副机：W×H×D：45cm×65cm×65cm
10.仪器净重： 180kg
http://zhoummm.cn.b2b168.com
